References

SYNTHESIS AND PHOTOSENSITIVE PROPERTIES OF UV-CURABLE/ALKALI-SOLUBLE RESIN AS NEGATIVE PHOTORESIST


[1] L. E. Schmidt, S. Yi, Y. H. Jin, Y. Leterrier, Y. H. Cho and J. A. E. Manson, J. Micromech. Microeng. 18 (2008), 045022;
DOI:10.1088/0960-1317/18/4/045022.

[2] R. Yang, S. A. Soper and W. Wang, Sens. Actuators A 135 (2007), 625-636.

[3] M. Sharma, A. A. Naik, M. Gaur, P. Raghunathan and S. V. Eswaran, J. Chem. Sci. 121 (2009), 503-508.

[4] H. H. Liu, W. T. Chen and F. T. Wu, J. Polym. Res. 9 (2002), 251-256.

[5] A. M. El-Demerdash and W. A. Sadik, J. Appl. Polym. Sci. 118 (2010), 1933-1942.

[6] J. S. Lee and S. I. Hong, Eur. Polym. J. 38 (2002), 387-392.

[7] L. Feng and B. I. Suh, J. Appl. Polym. Sci. 112 (2009), 1565-1571.

[8] K. Dietliker, R. Husler, J. Birbaum, S. Ilg, S. Villeneuve, K. Studer, T. Jung, J. Benkhoff, H. Kura and A. Matsumoto, Prog. Org. Coat. 58 (2007), 146-157.

[9] H. Q. Xie, X. G. Zhan and D. Xie, J. Appl. Polym. Sci. 98 (2005), 1607-1614.

[10] R. F. Bartholomew and R. S. Davidson, Part I, J. Chem. Soc. (1971), 2342-2346.